Oxford Instruments Asylum Research Cypher ES AFM
快速扫描, 全自动, SpotOn, 环境控制, 自动激光调节, 低噪音, AFM, 原子力显微镜, 扫描探针显微镜, 原子力, 多场耦合, 三轴分离扫描器, 原子级分辨, STM, 扫描电容, 扫描电化学, 静电力显微镜, 电势, 力曲线, DART, PFM,压电力显微镜, 扫描电化学, CAFM, ORCA, 闭环控制扫描器, 小巧, blueDrive, 光热激发, 原位动力学, 动态研究全密封, 气氛控制, 内置半导体变温, 纳米力学, 纳米电学, 纳米热学, Cypher, Asylum Research, 高性能AFM
Nikon ECLIPSE Ni-E
優れた光学性能と、電動アクセサリーなどによる高い柔軟性および拡張性を備えた、生物科学・医学分野の研究をサポートする研究・臨床用正立顕微鏡
Molecular Devices ImageXpress Confocal HT.ai
智能共聚焦高内涵成像分析系统带7通道高强度激光光源和机器学习功能的可扩展,高通量,高内涵筛选解决方案.能实现更大的检测灵活性,增加通量并获得质量更佳的图像.
Leica Microsystems DM6 FS
您是否在做电生理、进化生物学或者神经生物学等这种对载物台稳定有着超乎寻常要求的实验？Leica DM6FS固定载物台荧光显微镜是您应对现在或未来挑战这种挑战的最理想设备。
Keyence VK-X3000 3D Laser Scanning Microscope
由基恩士中国提供的 VK-X3000 系列; 采用了三重扫描方式，运用激光共聚焦、白光干涉、聚焦变化等三种不同的扫描原理，高倍率和低倍率，平面、凹凸表面的细微粗糙度，以及镜面体，透明体等。VK拥有应对多种样品的测量能力（从 1 nm 到 50 mm），纳米/微米/毫米一台完成测量。
Gatan/Ametek BioContinuum Energy Filter
The Gatan BioContinuum is a post-column imaging filter that improves the contrast of TEM images and delivers the most powerful imaging performance in life science applications.
![BioScope Resolve 小册子 [PDF]](https://veyugen.com/uploads/bruker_bioscope_resolve_bioafm_official_cover_2b8a1e5295.png)
Bruker BioScope Resolve BioAFM
了解更多关于该产品的关键特性、测量能力和技术规格。
KLA Surfscan SP5XP Wafer Defect Inspection
KLA 的缺陷检测和复检系统涵盖晶圆制造环境中的所有质量控制应用，包括工艺开发、生产监控和最终质量控制检查。 专业化的晶圆检测和复检设备，适用于主档硅、外延晶圆、绝缘体上硅、化合物半导体和其他晶圆类型，采用创新的光学技术和 AI 算法来评估晶圆表面的质量，能在生产过程中检测、计数和分类缺陷，并成为出厂晶圆质检的关键部分。这些检测和复检系统是 KLA 数据分析和管理系统的一部分，它们能主动识别会导致良率损失的晶圆/衬底制造工艺偏移。 这些信息能帮助晶圆制造商加速开发并缩短产品上线周期，成功生产高质晶圆。
KLA PROLITH / Optical Metrology Workflow
KLA 的半导体生态系统软件解决方案可集中并分析检测、计量和工艺系统生成的数据，并探索图案化技术的关键功能设计和可制造性。我们全面的数据分析产品套件使用先进的数据分析、基于 AI 的建模和可视化功能，支持运行时过程控制、缺陷偏移识别、晶圆和光罩排列、扫描仪和过程校正以及缺陷分类等应用。借助我们的图案化模拟软件，研究人员便可以较低成本评估先进的图案化技术，例如 EUV 光刻和多种图案化技术。通过将万亿 GB 的数据提炼为可操作的信息，我们经过 AI 技术增强的数据管理、数据分析和图案模拟系统可帮助芯片、晶圆、光罩和封装制造商提高良率学习率并降低生产风险
KLA eDR7380 E-beam Wafer Defect Review
KLA提供的缺陷检测与复检设备同时支持缺陷和在线设备监控：39xx, 29xx, Surfscan, 8 系列，CIRCL, eDR7xxx, Puma。
KLA Candela 8720 Compound Semiconductor Inspection
KLA 的缺陷检测和复检系统涵盖晶圆制造环境中的所有质量控制应用，包括工艺开发、生产监控和最终质量控制检查。 专业化的晶圆检测和复检设备，适用于主档硅、外延晶圆、绝缘体上硅、化合物半导体和其他晶圆类型，采用创新的光学技术和 AI 算法来评估晶圆表面的质量，能在生产过程中检测、计数和分类缺陷，并成为出厂晶圆质检的关键部分。这些检测和复检系统是 KLA 数据分析和管理系统的一部分，它们能主动识别会导致良率损失的晶圆/衬底制造工艺偏移。 这些信息能帮助晶圆制造商加速开发并缩短产品上线周期，成功生产高质晶圆。